美国Walchem WCU410 微蚀刻/化学镀铜控制器

Walchem的WCU410镀铜控制器和WNI410镀镍控制器是应用光电学原理在线分析测量溶液中铜或镍的浓度。其应用广泛,包括无电解化学镀槽和微蚀刻槽(包括氧化还原类)。
WCU410可以通过菜单切换化学镀铜至微蚀应用,无需增加另一台控制器。减少滴定检验的工序从而提高效率;应用于微蚀刻工艺时,减少更换槽内液体的频率而提高生产力。
WNI410供镀镍控制,可增加pH控制。设有两个控制泵之独立输出信号,供镍镀液和还原剂而设;另一个输出专为pH而设。每个输出端口都可以统计泵的运作时间、总流量和金属离子周转量。
已通过UL/CSA/CE认证。

» 参数调整
用户可以轻易地调整浓度设定点、警报设定点(上限及下限)、缓冲范围及泵运作时间。而联锁功能通过外接组件(例如流量开关)连结同时控制继电器。

» 简单、综合的数据采集
只需一个U盘即可从控制器下载存储的数据。使用这些数据可以验证系统性能,而数据和事件日志显示铜或镍数值以及化学品累计投放量和继电器启动时间。

» 4个独立控制继电器及输出端口(WCU)
可用于添加铜液、腐蚀剂、甲醛或螯合剂/稳定剂。每个输出端口都统计总补充量(以时间或流量为单位)。

» 可选的pH输入组件(WNI)
可用于添加调节pH值的化学品,输出端口统计总补充量(以时间或流量为单位)。

» 浓度读数单位
选择以克/每升(g/L)或盎司/每加仑(oz/gal)为单位。背光电子显示屏能够提供柱状图,将设定点与测量值的数据连续显示。